Щодо застосування та принципу технології розпилення мішеней деякі клієнти зверталися до RSM, тепер щодо цієї проблеми, яка більше хвилює, технічні експерти діляться певними відповідними знаннями.
Застосування мішені для напилення:
Заряджені частинки (такі як іони аргону) бомбардують тверду поверхню, змушуючи поверхневі частинки, такі як атоми, молекули або пучки, вилітати з поверхні об’єкта, що називається «розпорошенням».У покритті магнетронним розпиленням позитивні іони, що утворюються в результаті іонізації аргону, зазвичай використовуються для бомбардування твердого тіла (мішені), а розпилені нейтральні атоми осідають на підкладку (деталь), щоб утворити шар плівки.Покриття магнетронним напиленням має дві характеристики: «низькотемпературне» і «швидке».
Принцип магнетронного розпилення:
Ортогональне магнітне та електричне поле додається між розпиленим полюсом мішені (катодом) і анодом, і необхідний інертний газ (зазвичай газ Ar) заповнюється в камері високого вакууму.Постійний магніт утворює магнітне поле 250-350 Гаусів на поверхні матеріалу мішені та формує ортогональне електромагнітне поле з електричним полем високої напруги.
Під дією електричного поля газ Ar іонізується на позитивні іони та електрони, і існує певний негативний високий тиск на мішень, тому на електрони, випущені з цільового полюса, впливає магнітне поле, і ймовірність іонізації робочого збільшується газ.Біля катода утворюється плазма високої щільності, і іони Ar прискорюються до поверхні мішені під дією сили Лоренца та бомбардують поверхню мішені з високою швидкістю, так що розпорошені атоми на мішені вилітають з поверхні мішені з високою швидкістю. кінетичної енергії і летять на підкладку, утворюючи плівку за принципом перетворення імпульсу.
Магнетронне розпилення, як правило, поділяється на два види: розпилення постійного струму та радіочастотне розпилення.Принцип роботи обладнання для розпилення постійного струму простий, а швидкість розпилення металу висока.Використання радіочастотного напилення є більш широким, крім напилення провідних матеріалів, а також напилення непровідних матеріалів, а також реактивного напилення підготовки оксидів, нітридів і карбідів та інших складних матеріалів.Якщо частота РЧ збільшується, це стає мікрохвильовим плазмовим розпиленням.В даний час широко використовується мікрохвильове плазмове розпилення типу електронного циклотронного резонансу (ECR).
Час публікації: 01 серпня 2022 р