Вакуумне покриття стосується нагрівання та випаровування джерела випаровування у вакуумі або розпилення з прискореним іонним бомбардуванням і нанесення його на поверхню підкладки з утворенням одношарової або багатошарової плівки.Який принцип вакуумного покриття?Далі з ним нас ознайомить редактор РСМ.
1. Покриття вакуумним випаровуванням
Нанесення покриття випаровуванням вимагає, щоб відстань між молекулами пари або атомами від джерела випаровування та підкладкою, на яку наноситься покриття, була меншою, ніж середня довжина вільного пробігу молекул залишкового газу в приміщенні для нанесення покриття, щоб гарантувати, що молекули пари випаровування може досягати поверхні субстрату без зіткнення.Переконайтеся, що плівка чиста і міцна, і випаровування не окислюється.
2. Вакуумне напилення покриття
У вакуумі, коли прискорені іони стикаються з твердим тілом, з одного боку, кристал пошкоджується, з іншого боку, вони стикаються з атомами, що утворюють кристал, і, нарешті, атоми або молекули на поверхні твердого тіла бризкання назовні.Напилений матеріал наноситься на підкладку з утворенням тонкої плівки, яка називається вакуумним напиленням.Існує багато методів напилення, серед яких діодне напилення є найбільш раннім.Відповідно до різних катодних мішеней, його можна розділити на постійний струм (DC) і високочастотний (RF).Кількість атомів, що розпилюються в результаті впливу іона на поверхню мішені, називається швидкістю розпилення.З високою швидкістю розпилення швидкість формування плівки висока.Швидкість розпилення залежить від енергії та типу іонів і типу матеріалу мішені.Загалом, швидкість розпилення збільшується зі збільшенням енергії іонів людини, а швидкість розпилення дорогоцінних металів вища.
Час публікації: 14 липня 2022 р