З підвищенням рівня життя людей і безперервним розвитком науки і техніки люди висувають все більш високі вимоги до характеристик зносостійких, корозійно-стійких і високотемпературних декоративних покриттів.Звичайно, покриття також може прикрасити колір цих предметів.Тоді яка різниця між обробкою мішені для гальванічного покриття та мішені для напилення?Нехай експерти з технологічного відділу RSM пояснять це для вас.
Гальванічна мішень
Принцип гальванічного покриття узгоджується з принципом електролітичного рафінування міді.Під час гальванічного нанесення електроліт, що містить іони металу шару покриття, зазвичай використовується для приготування розчину покриття;Занурення металевого виробу, який буде покрито, у розчин для покриття та з’єднання його з негативним електродом джерела живлення постійного струму як катодом;Метал з покриттям використовується як анод і підключається до позитивного електрода джерела постійного струму.Коли подається постійний струм низької напруги, анодний метал розчиняється в розчині, стає катіоном і рухається до катода.Ці іони отримують електрони на катоді та відновлюються до металу, яким покриваються металеві вироби, що підлягають покриттю.
Мішень для розпилення
Принцип полягає в основному у використанні тліючого розряду для бомбардування іонами аргону на поверхні мішені, а атоми мішені викидаються та осідають на поверхні підкладки, утворюючи тонку плівку.Властивості та однорідність напилених плівок кращі, ніж у плівок, нанесених паровим напиленням, але швидкість осадження значно нижча, ніж у плівок, осаджених паровою фазою.У новому обладнанні для розпилення майже використовуються сильні магніти, які спирають електрони, щоб прискорити іонізацію аргону навколо мішені, що збільшує ймовірність зіткнення між мішенню та іонами аргону та покращує швидкість розпилення.Більшість металевих плівок наносяться напиленням постійного струму, а непровідні керамічні магнітні матеріали – напиленням змінним струмом.Основний принцип полягає у використанні тліючого розряду у вакуумі для бомбардування поверхні мішені іонами аргону.Катіони в плазмі прискоряться до поверхні негативного електрода як розпорошений матеріал.Це бомбардування змусить цільовий матеріал вилетіти та осісти на підкладці, щоб утворити тонку плівку.
Критерії вибору цільових матеріалів
(1) Мішень повинна мати хорошу механічну міцність і хімічну стабільність після формування плівки;
(2) Плівковий матеріал для плівки реактивного розпилення повинен легко утворювати складну плівку з реакційним газом;
(3) Мішень і підкладка повинні бути міцно з’єднані, в іншому випадку слід використовувати плівковий матеріал із хорошою силою зв’язування з підкладкою, і спочатку слід напилити нижню плівку, а потім підготувати необхідний шар плівки;
(4) Виходячи з вимог до продуктивності плівки, чим менша різниця між коефіцієнтом теплового розширення мішені та підкладки, тим краще, щоб зменшити вплив термічної напруги напиленої плівки;
(5) Відповідно до вимог щодо застосування та продуктивності плівки, використовувана мішень має відповідати технічним вимогам щодо чистоти, вмісту домішок, однорідності компонентів, точності обробки тощо.
Час публікації: 12 серпня 2022 р